بر اساس استاندارد های بین المللی مس بدون اکسیژن (گرید استاندارد یا Cu-OF) حاوی حداقل ۹۹٫۹۵ درصد و گرید Cu-OFE (گرید الکترونیکی) حاوی ۹۹٫۹۹ درصد مس است. میزان اکسیژن موجود نیز به ترتیب ۱۰ و ۵ ppm خواهد بود. در فرایند تولید مس الکترولیتی Cu-ETP نیز مذاب مس تحت یک اتمسفر اکسیدی کنترل شده قرار می گیرد، به نحوی که محصول نهایی حاوی ۲۰۰ تا ۴۰۰ ppm اکسیژن باشد.

ساختار ریختگی مس الکترولیتی شامل دندریت های محلول جامد آلفا و فاز یوتکتیک در راستای مرز دانه های دندریتی است. در فاز یوتکتیک، اکسید مس به صورت رسوبات گرد در شبکه محلول جامد آلفا نیز حضور دارد. همچنین اکثر ناخالصی ها در مرز دانه ها اکسید شده اند.

قاعده اصلی در تولید مفتول مسی این است که کل اکسیژن محلول از طریق واکنش های شیمیایی از مس حذف شود. این مهم ممکن است از طریق کاهش اکسیژن توسط کربن و یا حذف آن از طریق برخی عوامل کاهنده اکسیژن مانند فسفر، آلومینیوم، کلسیم و … انجام شود.

با این حال اثبات شده که روش دوم (استفاده از عوامل کاهنده اکسیژن) به نوعی پیچیده بوده و در اغلب موارد باعث نوساناتی در کیفیت محصول خواهد شد. علت این امر آن است که برای اکسیژن زدایی مس به نحو موثر اطلاع از مقدار دقیق اکسیژن محلول در مذاب الزامی است تا به این ترتیب امکان افزودن مقدار کافی از عامل کاهنده اکسیژن به درون مذاب فراهم شود. در این روش چنانچه بیش از مقدار مورد نیاز از عوامل کاهنده به مذاب اضافه شود خواصی مانند هدایت الکتریکی تحت تاثیر قرار می گیرد.

همچنین ممکن است ترکیبات اکسیدی مضری وارد مس شوند. اکسیژن زدایی مس از طریق کربن ساده ترین و موثرین روش تولید مس بدون اکسیژن است. مس بدون اکسیژن یک ماده تک فاز به شمار می رود که در آن میزان باقی مانده اکسیژن و سایر ناخالصی هایی که منشاء آنها مس کاتدی مورد استفاده به عنوان مواد اولیه است به صورت محلول جامد وجود دارند. به کمک تجهیزات ریخته گری این شرکت تولید مفتول مسی مطابق با استانداردهای ASTM C10100 (Cu-OFE) , C10200 (Cu-OF) , C11000 (Cu-ETP) و در ابعاد مختلف امکان پذیر است.